| EDI裝置與混床的區別 | 2024-4-26 |
EDI是采用電滲析和離子交換相結合的技術，溶解的鹽在低能耗的條件下被去除，在運行過程中不需要化學再生，其出水電阻率可達18.2MΩ.CM，產水水質穩定。
... |
| 純水電導率與含鹽量關系 | 2024-4-25 |
含鹽率的高低通過電導率儀來測定，含鹽率越低電導率越低，也就表明水質越好。... |
| 超純水系統中混床和EDI的區別 | 2024-4-24 |
EDI最大優點是可長期穩定運行，無需酸堿再生樹脂，水質穩定，運行成本低。EDI可以代替傳統的離子交換技術，通常產水電阻率約15~18MΩ.cm。... |
| 反滲透膜化學清洗 | 2024-4-23 |
純水設備在運行一段時間后，膜元件會被無機物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染，污染物沉積在膜表面，使得反滲透裝置壓差升高，導致產水量和脫鹽率下降，為了恢復膜元件良好的透水和除鹽性能，需要對膜進行化學清洗... |
| 軟水器的作用 | 2024-4-22 |
軟水器的作用是去除水中的鈣、鎂離子，防止鈣、鎂離子化合物在反滲透膜表面因濃度急劇升高而形成難溶于水的沉淀物，堵塞反滲透膜孔，縮短滲透膜元件的使用壽命。... |
| 醫藥行業純化水設備 | 2024-4-19 |
藥純化水設備對水質要求較高，其中對微生物的要求極為嚴格。反滲透膜能有效去除水中的細菌、熱原、病毒及有機物等雜質。... |
| 液晶顯示器、顯像管、集成電路（DRAM）用純水 | 2024-4-16 |
在電子元器件生產中，純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料。純水水質已成為影響電子元器件產品質量、成品率及生產成本的重要因素之一。... |
| 反滲透純水設備組成 | 2024-4-15 |
反滲透純水設備一般包括預處理系統、反滲透裝置、后處理系統、反滲透清洗系統等。... |
| 超濾膜過濾技術 | 2024-4-12 |
超濾膜是一種薄膜分離技術，在一定的壓力下（壓力為0.07～0.7MPa，最高不超過1.05MPa），水、溶解鹽類和其他電解質等微小顆粒滲透超濾膜，而相對分子質量大的顆粒和膠體物質被超濾膜阻擋，從而使水中的部分微粒得到分離的技術。超濾膜的孔徑是數十至幾百埃（?）、介于反滲... |
| 超純水設備采用EDI裝置的優點 | 2024-4-10 |
在超純設備中EDI裝置應用在二級反滲透系統之后，取代傳統的混合離子交換技術，產出穩定的去離子水。... |
|
